LSAT субстрат
Тасвирлау
(La, Sr) (Al, Ta) O 3 - чагыштырмача җитлеккән кристалл булмаган перовскит кристалл, ул югары температуралы үткәргечләр һәм төрле оксид материаллары белән яхшы туры килә.Лантан алуминаты (LaAlO 3) һәм стронциум титанаты (SrO 3) гигант магнитоэлектрика һәм үткәргеч үткәргеч җайланмаларда күп санлы практик кушымталарда алыштырылыр дип көтелә.
Сыйфатлар
| Methodсеш ысулы | CZ үсеше |
| Бәллүр система | Кубик |
| Кристаллографик такталар даими | a = 3.868 A. |
| Тыгызлыгы （г / см3） | 6.74 |
| Эретү ноктасы （℃） | 1840 |
| Каты (Мхо) | 6.5 |
| Rылылык үткәрүчәнлеге | 10х10-6К. |
LaAlO3 субстрат төшенчәсе
LaAlO3 субстраты төрле материалларның нечкә фильмнарын үстерү өчен фәнни-технологик кушымталарда субстрат яки база буларак кулланылган билгеле материалны аңлата.Ул лантан алуминатының (LaAlO3) кристалл структурасыннан тора, ул гадәттә нечкә пленка чүпләү өлкәсендә кулланыла.
LaAlO3 субстратлары нечкә фильмнар үсү өчен кирәкле характеристикаларга ия, мәсәлән, аларның кристалл сыйфаты, башка материаллар белән яхшы тәлинкә туры килмәве, эпитаксиаль үсеш өчен яраклы өслек тәэмин итү сәләте.
Эпитаксиаль - субстратта нечкә фильм үстерү процессы, анда фильм атомнары субстратныкы белән тигезләшеп, югары тәртипле структура формалаштыралар.
LaAlO3 субстратлары электроника, оптоэлектроника һәм каты дәүләт физикасы кебек өлкәләрдә киң кулланыла, монда нечкә фильмнар төрле җайланмалар өчен бик мөһим.Аның уникаль үзенчәлекләре һәм күп төрле материаллар белән туры килүе аны бу өлкәләрдә тикшерү һәм үстерү өчен мөһим субстрат итә.
Highгары температуралы үткәргеч үткәргеч
Temperatureгары температуралы үткәргечләр (HTS) - гадәти үткәргеч үткәргечләр белән чагыштырганда чагыштырмача югары температурада супер үткәрүчәнлекне күрсәтүче материаллар.Гадәттәге үткәргеч үткәргечләр түбән температураны таләп итәләр, гадәттә -200 ° C (-328 ° F), электр каршылыгын күрсәтү өчен.Киресенчә, HTS материаллары -135 ° C (-211 ° F) һәм аннан да югары температурада үткәрүчәнлеккә ирешә ала.
